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Jueves, 25 de octubre de 2007
24 de Octubre de 2007.

Investigadores de la Universidad de Illinois han descubierto una forma de generar luz y reducir los da?os en una t?cnica candidata clara para la litograf?a microelectr?nica de la pr?xima generaci?n. La t?cnica podr?a ayudar a lograr chips m?s peque?os y eficaces para ordenadores.

En la b?squeda por crear chips de ordenador cada vez m?s miniaturizados, los fabricantes est?n explorando la litograf?a en el ultravioleta extremo como la pr?xima tecnolog?a destinada a su impresi?n. Para la fuente de luz de la longitud de onda necesaria, los cient?ficos han escogido un gas caliente, ionizado (un plasma). Pero los iones de alta energ?a producidos en el plasma pueden da?ar al espejo responsable de recolectar la luz.

A?adiendo al plasma una peque?a cantidad de un gas m?s ligero, los investigadores han logrado una forma de reducir significativamente los da?os y extender la vida ?til de la ?ptica que se ocupa de captar la luz.

Agregando esa cantidad peque?a de un gas m?s ligero, como el hidr?geno, se reduce de manera notable tanto el n?mero como la energ?a de los iones de xen?n que alcanzan la superficie del colector, prolong?ndose su vida ?til, en tanto que la innovaci?n tiene un efecto insignificante en la producci?n de luz del ultravioleta extremo.

Cuando absorben parte de la energ?a del plasma, los iones de hidr?geno impiden que los iones de xen?n se aceleren hasta el punto en que pueden da?ar la superficie del colector, prolongando as? la vida ?til de ?ste.

En realidad, el xen?n es el segundo mejor radiador para producir la luz en la longitud de onda deseada. Es posible obtener el triple de luz utilizando esta?o, pero resulta un elemento qu?mico poco adecuado pues provoca muchos problemas debido a sus caracter?sticas f?sicas.
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